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第718章光刻机（第2页）

1978年，1445所在GK-3的基础上开发了GK-4，但还是没有摆脱接触式光刻机。

1980年，清华大学研制第四代分步式投影光刻机获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。

1981年，华夏科学院半导体所研制成功JK-1型半自动接近式光刻机。

1982年，科学院109厂研制出了KHA-75-1光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低，最保守估计跟当时最先进的canon相比最多也就不到4年。

1985年，机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过电子部技术鉴定，认为达到米国4800DSW的水平。这应当是华夏第一台分步投影式光刻机，华夏在分步光刻机上与国外的差距不超过7年。

南广林的脑子就像一部计算机，上面这些数据被他如数家珍的一一道出。

他的声音变得越来越低沉，“只可惜进入九十年代后，我国光刻机光源长时间被卡在193纳米无法进步，这个技术非常关键……而且在八十年代，我国和米国的关系得到改善，很多过去对我们限制的高科技产品，现在都可以卖给我们了，国外的光刻机产品，性价比远高于自我研发，我国光刻技术的研发和产业化实质上放弃了自主攻关。”

“小东，你的心情我能理解，之前我说过，如果我们搞芯片研发，资金要以千万为单位计算，但是如果搞光刻机的话，直接就要以亿为单位了。”

“现在国际上生产光刻机最强的国家是霓虹国，尼康听说过吗？我们国家在193纳米这个指标上被卡住多年了，而尼康现在已经采用157nm的F2激光，至少领先我们二十年。小东，就算你有钱，但作为长辈和朋友，我劝你一句，光刻机还是不要碰为好，它会让你倾家荡产。”

南广林的话语重心长，可谓是掏心窝子说的。

韩小东微微一笑，“南工，今年八月份我送燕晓去康奈尔大学……”

南广林见他突然说起不相干的事，有些奇怪，但是他出自对韩小东的信任，仍然耐心的听了下去。

“在康奈尔大学附近的咖啡馆，我偷听到过一个华裔科学家说了一段关于光刻机技术的话，原话我记不住，但是大概意思是这样的……”

“水会影响光的折射率——在透镜和硅片之间加一层水，就会降低光的波长，南工，你觉得这个方法可行吗？”

“加一层水？”南广林整个人似乎都傻掉了，他不停的重复这四个字。

足足几分钟，南广林突然站了起来，“小东，你说的这个华裔科学家叫什么名字？”

“南工，我都说了我是偷听的，又怎么会知道对方的名字？”韩小东气定神闲地端起咖啡杯，浅浅的喝了一口。

南广林是华夏最杰出的计算机科学家，只需要一点拨，那层蒙在我们眼前的窗户纸就会破掉。

韩小东刚才说的就是让世界震惊的“浸润式微影技术”，彻底改变了集成电路的生产。这项技术是在透镜和硅片表面的间隙中，用水代替空气以提高分辨率。当全世界的半导体研发团队都在专注于157纳米波长技术时，这项技术创造性地以193纳米波长的光，通过水作为介质，将其缩短至134纳米。

这项技术是前世台积电一位天才的林姓科学家发明的，那一年是二零零二年。

而现在是一九九五，如果华夏提前七年起跑，会不会把对手拉在身后？